据介绍，精益三星电子MicroLED中使用的LED元器件尺寸小于50μm，仅为一般100型高分辨率B2B产品中LED器件的10%。
图四：工程能带结构分析对这些材料适于做空穴型透明导电材料给予较充分的理论解释根据M2+的电子组态的不同，工程将10种筛选出的直接带隙Cs4M2+B3+2XVII12化合物分成三类（Type-I，Type-II和Type-III）图（a）（b）和（c）分别示出Cs4CdSb2Cl12 (type-I)，Cs4SnBi2Cl12 (type-II)，和Cs4CaIn2Cl12 (type-III)的能带结构精修Na0.7[Mn0.6Ni0.2Mg0.2]O2的XRD发现，数字0.15个Mg2+位于过渡金属层，可以破坏Mn和Ni的电荷有序和Na+/空位有序，因此能促进钠离子的扩散，平滑充放电曲线。
Mn、造价字化造Ni和O的XAS发现，在4.1-4.2V，氧参与氧化还原反应，提供大约10mAh/g可逆容量。图六、恒华MNM-2的动力学性能和MNM-2/硬碳全电池的性能（a）CV曲线中，峰值电流（Ip）与扫描速率（v1/2）关系图。擅长同步辐射原位表征技术，科技擅长从电极材料晶体结构、电子结构和分子轨道的角度研究电极材料在充放电过程中的演变规律和储能机制。
Na+优先占据特殊位置形成有序排列，发布在低于4.0V产生多个充放电平台。另一方面，全过钠层中的镁离子起到支柱的作用，在充放电过程减小了晶胞变化，尤其抑制了高电压充电过程中的氧滑移和结构坍塌。
程数（b）MNM-2首次充放电和第二次充电的GITT图。
（d，软件e）MNM-2中Mn和NiK边的XANES图。为了研究这一问题，精益科学家们在过去几十年里发展了光子晶体来禁止光在各个方向的传播。
2019年01月09日，工程相关成果以题为Realizationofathree-dimensionalphotonictopologicalinsulator的文章在线发表在Nature上。研究人员设计了一种由多个开口谐振器构成的单元结构，数字通过对该材料内部和表面电磁场分布成像，数字可以观测到二维狄拉克锥形式的表面态以及三维能隙，从而成功制备了三维光学拓扑绝缘体。
这项工作首次在三维光子带隙实现拓扑性质，造价字化造将三维拓扑绝缘体从费米子体系扩展到了玻色子体系，造价字化造拓宽了三维拓扑绝缘体在光子器件领域的应用前景。【成果简介】近日，恒华新加坡南洋理工大学的ZhenGao、BaileZhang以及浙江大学的陈红胜（共同通讯作者）等合作发表文章，报道实现了三维光学拓扑绝缘体。